会议简介
第二十一届全国激光技术与光电子学学术会议（LTO2026）将于2026年6月12-15日在湖南省长沙市隆重举办。本届会议设置先进激光材料、薄膜及元器件、先进激光加工与制造技术、半导体激光与先进光电子器件等11个专题，汇聚我国激光与光电子领域院士、知名专家及学术带头人作专题报告，共同探讨最新技术动态，推动产学研深度融合。
博顿光电作为国内领先的离子束微纳加工设备与工艺解决方案提供商，受邀参展本次盛会。届时，我们将重点展示核心产品：
全自主可控国产化离子束溅射镀膜设备
面向科研院所/高校/及研发机构的小型化、模块化离子束微纳加工装备解决方案
针对激光薄膜、光电子器件、精密光学元件等工艺解方案
核心设备展示
IBS离子束溅射镀膜设备
工艺技术能力：
双离子束协同，沉积速率稳定，膜层控制精度高
激光损伤阈值优异
超低光学损耗≤5ppm@633nm
超高反射率≥99.999%
薄膜均匀性±0.5%
IBE/RIBE 扫描型离子束刻蚀设备
应用特点：适用于多种材料及器件特殊结构的刻蚀加工，具有离子束束流高度准直、高精度刻蚀深度和角度控制、配置高灵活性、运行高稳定性的特点。
应用方向：材料加工、微结构制作和样品表面处理，满足多种材料精细刻蚀、复杂微纳结构制备及表面改性的工艺需求。
IBX-Lab离子束增减材协同加工试验平台
应用方向：可模块化配置离子束沉积、离子束刻蚀、离子束抛光及表面处理等多种功能
应用领域：可实现原位增减材协同加工，支持各类纳米级及原子级加工工艺实验应用
IBS-Lab 离子束溅射镀膜设备
应用方向：可沉积金属、半导体、介质材料，有着优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性，超薄、超致密、超精准成膜；
应用工艺：介质镀膜、电极镀膜、超薄多层薄膜等
IBE/RIBE-Lab 离子束刻蚀设备
应用方向：刻蚀精度高，支持倾斜刻蚀和侧壁精确控制，可刻蚀多种材料：金属（Au、Cu、Ag、Al、Pt、W）、介质（SiO2、HfO2、TiO2、LN）、多层异质结构等；
应用工艺：倾斜光栅、矩形光栅、特种光栅、特殊微纳结构等
博顿光电·诚邀莅临
欢迎各位行业专家、学者及合作伙伴莅临【13号】展位，现场交流离子束技术在激光与光电子微纳制造领域的最新应用与工艺突破。
