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氧化物半导体靶材企业庸行科技完成新一轮融资,南山战新投、光谷人才基金联合投资

作者:本站编辑      2026-06-03 07:47:08     0
氧化物半导体靶材企业庸行科技完成新一轮融资,南山战新投、光谷人才基金联合投资

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近日,氧化物半导体靶材材料研发商深圳庸行科技有限公司(以下简称"庸行科技")完成新一轮融资。本轮由南山战新投、光谷人才基金联合投资。
庸行科技是国内少数掌握氧化物半导体靶材自主研发能力的企业,核心专利材料兼具高迁移率与高稳定性,适用于OLED、Micro-LED等高端显示面板。公司2024年获创维集团天使轮投资后,已启动南京中试级量产线建设,规划年产约200吨金属化物粉体产能。

1、庸行科技

深圳庸行科技有限公司成立于2021年3月,总部位于深圳市南山区,是一家专注氧化物半导体靶材材料研发与产业化的高科技企业。
靶材是显示面板制造的核心耗材——通过磁控溅射工艺将靶材原子沉积到玻璃基板上,形成驱动TFT(薄膜晶体管)的有源层。氧化物半导体(如IGZO)靶材是实现OLED、Micro-LED高分辨率显示的关键材料,长期被日本出光兴产(Idemitsu Kosan)、JX金属等企业垄断。
庸行科技自主研发的氧化物靶材在传统IGZO(铟镓锌氧)基础上引入稀土元素和多元金属化合物,实现靶材关键指标对标国际一线产品。2025年2月,公司核心发明专利"一种氧化物烧结体及其制备方法、氧化物靶材及应用"(CN117776675B)获授权。

2、核心亮点

2.1 技术壁垒:稀土掺杂+多元金属协同的氧化物靶材体系

庸行科技的技术创新在于材料配方的差异化路径——在氧化铟(In₂O₃)主体中引入稀土氧化物(氧化铈/氧化镨/氧化铽)形成微小晶粒嵌入,再通过第二金属化合物(金属氧化物/氟化物)调控导电性能。材料体系覆盖平面靶材和旋转靶材两种形态,适配G8.5/G10.5代线等大尺寸面板产线需求。

2.2 市场空间:IGZO靶材国产替代的窗口期

氧化物半导体(IGZO)TFT是OLED和下一代Micro-LED显示的核心驱动技术。相比传统a-Si TFT,IGZO具有更高的电子迁移率(10–50 cm²/V·s vs ~0.5 cm²/V·s),可实现更高分辨率、更低功耗和更窄边框。随着京东方、TCL华星、维信诺等国内面板厂在OLED和Micro-LED领域的大规模扩产,IGZO靶材的国产化需求进入快速增长期。
当前全球氧化物靶材市场仍由日本企业主导,国产化率不足10%。庸行科技从材料配方→靶材制造→溅射工艺的全链条自主能力,使其成为该赛道国产替代的稀缺标的。

3、融资历程

根据企查查显示,庸行科技已完成4轮融资,引入创维投资、益华资本、南山战新投、光谷人才投资等投资机构。
本文来源:
1、庸行科技百度百科 / 投资界(pedaily.cn)/ 创新企业服务平台;
2、南京庸行科技材料有限公司新型半导体材料产业化项目环评公示(2026年3月);
3、庸行科技专利;
4、烯牛数据库;
5、企查查数据库;

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