2026年第二届先进光刻技术研讨会
由半导体在线主办的第二届先进光刻技术研讨会将于7月3日在上海举办，会议聚焦光刻机、掩模版、光刻胶等核心议题，欢迎参会、参展等合作！
近日，光掩模材料研发商韶光芯材完成C+轮融资，尚颀资本及上汽金控（上汽集团战略直投基金）等投资。
长沙韶光芯材科技有限公司成立于2003年8月，前身为国家立项的光掩模基板配套项目，是国家级重点专精特新“小巨人”企业、湖南省制造业单项冠军，专注于光掩模基板与精密光学元件研发、生产及销售。公司是国内唯一掌握石英光掩模基板全流程核心技术并实现规模化量产的企业，承担国家级先进制程用掩模基板重大专项，产品覆盖半导体与泛显示领域；同时布局超精密光学元件业务，技术实力与出货规模均居国内领先。
当前，光掩模基板（Blank mask）是芯片制造环节的核心基础材料，技术壁垒高、供应链战略地位突出，高端市场长期由境外厂商垄断，国产替代进程迫切。韶光芯材已实现石英基板研磨抛光、磁控溅射镀膜、光刻胶涂覆全流程工艺自主可控，形成覆盖 I/G-line、KrF、ArF等节点的完整产品谱系，率先在国内头部掩模厂与晶圆厂实现批量供货。依托先进加工技术与精密工艺流程，公司光掩模基板产品性能与可靠性对标国际标准，技术水平国内领先，市场占有率稳步提升。同时，公司超精密微纳光学元件业务凭借独特的微纳结构设计，深度绑定国产半导体设备龙头，广泛应用于微电子、光通讯、生物芯片等高端领域，与光掩模基板业务形成双轮驱动，成长空间广阔。
尚颀资本投资团队表示，掩模基板是实现中国半导体产业链⾃主可控的关键环节之⼀，国产替代需求强烈。韶光芯材作为国内稀缺的全流程自主量产标的，在技术研发、产品认证、客户导入与产能布局上均具备显著先发优势。公司凭借其深厚的技术积累和创新能力，正逐步打破国外企业的垄断，推动半导体材料的国产化进程，为中国芯贡献力量。
