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近期，欧诺半导体完成新一轮融资！
有哪些值得关注的？
第一、由浙商创投领投，大璞资本担任本轮独家财务顾问。半导体炉管设备全球市场被TEL、KE海外厂商垄断近90%份额，国内常压炉国产化率较高，但LPCVD、ALD高端炉管国产化率很低，是急需突破领域；
第二、欧诺2023年成立，以常压炉为基础、LPCVD为核心优势，覆盖8/12英寸晶圆；凭借腔体薄膜超净技术和精准低温控制技术，关键指标对标日本TEL/KE，工艺验证周期较行业缩短50%，填补国内200℃以下低温炉管温控空白；同时已储备ALD炉管核心技术，可覆盖90%以上开发需求，卡位下一代高端装备赛道；
第三、公司核心团队平均从业近15年，8/12英寸LPCVD已实现客户端量产出货，是国内少数可对标替代海外设备的厂商；炉管设备市场需求持续扩容，LPCVD+ALD将成未来主战场，欧诺凭借技术、落地能力，有望成为国产炉管替代标杆企业。
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