文章来源：零一创投
近日，国产高端光刻设备企业普雨科技（苏州）有限公司（简称「普雨科技」）宣布完成数亿元融资。公司成立于2024年7月22日，是一家专注于纳米压印光刻设备研发、生产与产业化的高科技企业，致力于为集成电路、泛半导体行业提供优质微纳制造解决方案。核心团队汇聚半导体设备领域资深专家，成员均来自国内外知名企业与高校，具备顶尖研发实力和丰富产业化经验，构建了覆盖全链条的研发与交付团队。
作为替代EUV的下一代光刻核心技术方向，公司纳米压印设备具备低成本、高分辨率、低能耗优势，制造成本可降低40%。首台套设备已进入总装调试阶段，关键性能指标达行业领先水平，率先布局AI与光互联领域，可广泛应用于多种泛半导体场景。
半导体产业的竞争，核心是高端装备的竞争。光刻作为芯片制造中技术最复杂、成本最高的核心环节，其成本占总生产成本的30%以上，生产周期占比更是接近50%。长期以来，我国在先进制程光刻设备领域受制于海外技术垄断，而纳米压印技术的兴起为打破这一格局提供了历史性机遇。
与传统EUV光刻机相比，纳米压印设备不仅采购成本仅为前者的数分之一，更能降低制造成本40%，同时具备超高分辨率和低能耗的显著优势，被业界视为有望替代EUV的下一代光刻核心技术方向。当前，国际半导体设备巨头已推动纳米压印技术实现商业化突破，相关设备已导入海力士、铠侠等全球存储巨头，标志着该技术正式迈入产业化拐点。
普雨科技创始团队深耕纳米压印与半导体设备领域多年，汇聚了一批在光刻技术、精密制造、半导体工艺及产业化落地等方向的资深专家，具备顶尖的技术研发实力、成熟的工程化经验与市场化开拓能力。
公司已组建覆盖软硬件开发、精密工艺、机械设计、供应链管理及客户端交付的全链条精英团队。核心成员均来自国内外知名半导体设备企业，在高精度套刻、光刻精度、良率管控等关键技术领域拥有长期技术积累与量产落地经验，形成了从前沿技术研发到产业化落地的完整能力闭环。
作为产业化落地的里程碑产品，普雨科技首台套纳米压印光刻设备已进入总装调试的关键冲刺阶段。该设备将率先落地AI与光互联这一战略高地，搭载多项自主研发核心技术模块，在对准精度、压印速率等关键性能指标上均达到领先水平，可广泛应用于下游多个场景。
未来，普雨科技将紧抓纳米压印技术产业化关键窗口期，以“技术攻坚+产业落地”双轮驱动，加速核心设备迭代与规模化交付，为我国高端装备产业突破技术瓶颈、实现高质量发展注入自主创新动能，开辟差异化竞争新赛道。
