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◆ 光刻胶是晶圆制造重要材料,行业壁垒高。光刻胶是晶圆制造重要材料,承担“图形转移”重任。光刻胶种类繁多,专用性强。光刻的线宽极限和精度决定了集成电路的集成度、可靠性和成本,因此摩尔定律推动光刻胶技术不断加速迭代。同时光刻胶行业具备技术、客户、设备及原料四大高壁垒。
◆ 光刻胶市场不断扩容,高端光刻胶亟需国产替代。随着下游半导体、LCD 和 PCB 三大领域的高速发展,Reportlinker 数据预计光刻胶市场亦将持续扩容,2022 年有望超百亿。我国光刻胶产品以中低端为主,技术难度较高的半导体领域的 KrF、ArF 光刻胶则几乎全部依赖进口,被日美垄断,亟需国产替代。
◆ 以史为鉴产业链协同是关键,全产业链自主可控进步加速国产化。复盘日本光刻胶产业崛起关键因素为上下游协同发展,对比我国光刻胶产业全产业链自主可控不断突破:1)下游伴随半导体和 LCD 产业不断向国内转移,驱动配套光刻胶需求提升。2)中游政策不断利好,国内企业进入高端光刻胶量产和规模出货阶段,国产化加速。3)上游原料和设备虽然被外企垄断,但国内部分企业积极投入研发,已有所突破,全产业链自主可控进步将加速光刻胶国产替代。
◆ 外企断供风险加剧,高端光刻胶迎来国产发展良机。今年 11 月份市场有消息称美国杜邦、陶氏、德国 AZ、日本 TOK 或将断供包括高端光刻胶 KrF、ArF 在内的部分半导体材料。日美企业厂商占据国内高端光刻胶市场大部分份额,一旦断供,国内多家晶圆厂或将面临光刻胶缺货风险,将主动或被动的快速导入国产光刻胶,国内企业迎来高端光刻胶国产替代良机。
【配置建议】
◆ 行业投资策略上我们建议关注:(1)光刻胶研发突破;(2)光刻胶品类扩展;(3)光刻胶产能规划;(4)光刻胶原材料自主可控进展;(5)光刻机突破情况。
◆ 建议关注标的:推荐关注具备先发优势和产业链一体化优势的企业:华懋科技,彤程新材,晶瑞电材,南大光电,上海新阳
【风险提示】
◆ 技术突破不及预期
◆ 客户进展不及预期
◆ 政策风险超预期
报告全文如下
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