会议信息
2026年4月16-17日，2026未来半导体产业创新大会将在江苏省苏州市召开。本届大会以金刚石、碳化硅、氮化镓、氧化镓等（超）宽禁带半导体材料为核心，紧扣“材料-器件-工艺-装备”与“异质集成-热管理-封装应用”两大链条，聚焦半导体材料生长、高导热基底、异质集成、先进封装、微通道散热等关键领域，探讨下一代电子器件散热趋势，旨在搭建产学研协同平台，助力半导体绿色计算新生态构建。
会议地址
江苏・苏州尹山湖希尔顿酒店（吴中区郭巷街道环湖路1688号）
会议议程
主办单位
Flink 启明产链、苏州晶和半导体科技有限公司（拟邀）
协办单位
国家第三代半导体技术创新中心（苏州）
承办单位
宁波启明产链信息科技有限公司
会议亮点
聚焦（超）宽禁带半导体核心材料（金刚石、SiC、GaN、氧化镓等）
直击电子产业 “热管理” 核心瓶颈，贴合 “双碳” 需求
覆盖 “材料 - 器件 - 工艺 - 装备” 全产业链条
兼顾前沿技术研究与产业化落地实践
设 2 大平行论坛、4 大核心主题，细分 60 + 话题
“大会 + 平行论坛 + 产品展示” 多维形式结合
1 对 1VIP 对接（技术 / 融资 / 人才）精准匹配
配套供需墙、海外人才引进专项活动
权威机构背书，产学研资源高度聚合
专属行业交流群，沉淀长期资源
北京正通远恒科技有限公司为客户提供最先进的阴极发光CL-SEM系统仪器和工具，帮助客户在材料科学领域获得新见解，并解决半导体行业中棘手的工艺开发难题。我们通过创新的阴极发光（CL） 技术和电子与光谱学的独特结合来实现这一目标。
Allalin是一种纳米分辨率光谱仪器，基于一种被称为定量阴极发光的突破性技术，它将光学显微镜和扫描电子显微镜（SEM）集成到一个系统中。该系统的构建是为了在不牺牲扫描电镜（SEM）性能的前提下获得最佳的阴极发光性能。
Chronos则是一种基于Allalin定量CL体系的变温时间分辨纳米光谱仪器，它配备了一套全面的超快探测器，可覆盖紫外到红外的波长范围，并为用户的应用优化性能。
北京正通远恒科技有限公司长期深耕于薄膜沉积设备领域，作为高端科研仪器设备供应商，始终致力于为客户提供专业技术服务，实现公司和客户在薄膜领域的双赢发展。
原子层沉积（atomic layer deposition, ALD）是通过气相前驱体及反应物脉冲交替的通入反应腔并在基底上发生表面化学反应形成薄膜的一种方法，通过自限制性的前驱体交替饱和反应获得厚度、组分、形貌及结构在纳米尺度上高度可控的薄膜。该方法对基材不设限，尤其适用于具有高深宽比或复杂三维结构的基材。
【END】
电话：010-64415767 | 010-64448295
邮箱：info@honoprof.com
会议信息
2026年4月16-17日，2026未来半导体产业创新大会将在江苏省苏州市召开。本届大会以金刚石、碳化硅、氮化镓、氧化镓等（超）宽禁带半导体材料为核心，紧扣“材料-器件-工艺-装备”与“异质集成-热管理-封装应用”两大链条，聚焦半导体材料生长、高导热基底、异质集成、先进封装、微通道散热等关键领域，探讨下一代电子器件散热趋势，旨在搭建产学研协同平台，助力半导体绿色计算新生态构建。
会议地址
江苏・苏州尹山湖希尔顿酒店（吴中区郭巷街道环湖路1688号）
会议议程
主办单位
Flink 启明产链、苏州晶和半导体科技有限公司（拟邀）
协办单位
国家第三代半导体技术创新中心（苏州）
承办单位
宁波启明产链信息科技有限公司
会议亮点
聚焦（超）宽禁带半导体核心材料（金刚石、SiC、GaN、氧化镓等）
直击电子产业 “热管理” 核心瓶颈，贴合 “双碳” 需求
覆盖 “材料 - 器件 - 工艺 - 装备” 全产业链条
兼顾前沿技术研究与产业化落地实践
设 2 大平行论坛、4 大核心主题，细分 60 + 话题
“大会 + 平行论坛 + 产品展示” 多维形式结合
1 对 1VIP 对接（技术 / 融资 / 人才）精准匹配
配套供需墙、海外人才引进专项活动
权威机构背书，产学研资源高度聚合
专属行业交流群，沉淀长期资源
北京正通远恒科技有限公司为客户提供最先进的阴极发光CL-SEM系统仪器和工具，帮助客户在材料科学领域获得新见解，并解决半导体行业中棘手的工艺开发难题。我们通过创新的阴极发光（CL） 技术和电子与光谱学的独特结合来实现这一目标。
Allalin是一种纳米分辨率光谱仪器，基于一种被称为定量阴极发光的突破性技术，它将光学显微镜和扫描电子显微镜（SEM）集成到一个系统中。该系统的构建是为了在不牺牲扫描电镜（SEM）性能的前提下获得最佳的阴极发光性能。
Chronos则是一种基于Allalin定量CL体系的变温时间分辨纳米光谱仪器，它配备了一套全面的超快探测器，可覆盖紫外到红外的波长范围，并为用户的应用优化性能。
北京正通远恒科技有限公司长期深耕于薄膜沉积设备领域，作为高端科研仪器设备供应商，始终致力于为客户提供专业技术服务，实现公司和客户在薄膜领域的双赢发展。
原子层沉积（atomic layer deposition, ALD）是通过气相前驱体及反应物脉冲交替的通入反应腔并在基底上发生表面化学反应形成薄膜的一种方法，通过自限制性的前驱体交替饱和反应获得厚度、组分、形貌及结构在纳米尺度上高度可控的薄膜。该方法对基材不设限，尤其适用于具有高深宽比或复杂三维结构的基材。
【END】
电话：010-64415767 | 010-64448295
邮箱：info@honoprof.com
