-来自彤程，龙图光罩，SEMI，复旦大学，南开大学，暨南大学，苏州实验室，欣奕华，中电科48所，安捷伦，湖北菲利华，新维度微纳，卫利等单位的专家将作精彩报告
-第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开
根据珠海市龙图光罩科技有限公司40nm-28nm半导体掩模版生产线项目环境影响评价文件、技术评估报告等，按照建设项目环境影响评价审批程序的有关规定，我审批机构拟对该项目环境影响评价文件作出批准决定。为体现公开、公正的原则，强化公众参与，现予公示。公示期5个工作日（2026年04月13日至2026年04月17日）。如有意见，请在公示期内来信或来电向我审批机构反映。
联系地址：广东省珠海市香洲区红宝路97号，邮编：519000
联系电话：0756-2155975
传 真：/
听证告知：依据《中华人民共和国行政许可法》第四十七条的规定，自公示之日起五个工作日内申请人及有关利害关系人可对我审批机构拟作出的决定提出听证申请。
项目名称 | 珠海市龙图光罩科技有限公司40nm-28nm半导体掩模版生产线项目 |
建设地点 | 广东珠海高新技术产业开发区科新二路130号3栋 |
建设单位 | 珠海市龙图光罩科技有限公司 |
项目概况 | 项目总投资195436.81万元，其中环保投资55万元，在原预留厂房（3栋）扩建掩模版生产线，不额外新增占地及建筑面积。扩建生产规模为年产掩模版1.5万片，本项目建成后全厂年产掩模版14万片。同时，扩建后现有项目蚀刻工序反应气体由四氟化碳替换为六氟化硫。 |
环评机构 | 广东华博士环保科技有限公司 |
主要环境影响及预防或减轻不良环境影响的对策和措施 | 根据报告表分析，本项目主要环境影响如下：废水：生活污水、清洗废水、废气喷淋废水；废气：烘干、蚀刻废气（氟化物、二氧化硫），清洗酸雾废气（硫酸雾）和氨气，涂胶、酒精擦拭有机废气；噪声：生产设备运行过程中产生的噪声；固废：生活垃圾；废过滤芯、废包装材料、废贴膜；废显影液、废定影液、废酸液、废碱液、废光刻胶、不合格品、废抹布、废包装桶/瓶。项目其他环境影响及预防措施详见报告表。 |
公众参与情况 | 本项目已按要求进行受理公示，期间未收到反馈意见。 |
该项目建设周期为 36 个月，项目拟通过建立高端半导体光掩模生产线，实现 40nm-28nm 工艺节点半导体掩模版的量产。项目建成达产后，龙图光罩将新增每年稳定产出 15,000 片半导体掩模版；在产品结构上，除现有的二元掩模版和相移掩模版外，增加更高制程的 KrF-PSM、ArF-PSM 以及 OMOG 掩模版产品。
若该项目建成通线，将进一步扩大本土40-28nm光掩模产能。
—论坛信息—
名称：第3届光掩模与光刻胶技术论坛
时间：2026年4月24日
地点：上海
主办方：亚化咨询
—会议背景—
随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年，高NA EUV已进入高容量制造阶段，而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者，正加速研发。 进入2026年，中国对高端光掩模的需求持续强劲增长，但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元，年复合增长率达4.0%。预计到2030年，该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右，预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。 全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导，市场占有率超过70%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替代方面取得突破。 亚化咨询预计2026年市场规模有望达到100亿元。在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破，如南大光电实现ArF光刻胶量产。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年成立)等。国内光掩模与光刻胶产业发展正在提速，技术进步成为产业发展的重要推动力。 第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家，探讨下一代光刻技术发展方向，中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用，市场机遇与挑战，和产业发展前景。
—论坛信息—
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时间：2026年4月24日
地点：上海
主办方：亚化咨询
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随着半导体工艺节点向2nm及以下推进，下一代光刻技术已成为行业焦点。主要方向包括高数值孔径极紫外（High-NA EUV）光刻、纳米压印光刻、电子束光刻、定向自组装（DSA）和X射线光刻等。这些技术旨在提升分辨率、降低成本并提高产量。2026年，高NA EUV已进入高容量制造阶段，而NIL和X射线光刻作为潜在颠覆者，正加速研发。 进入2026年，中国对高端光掩模的需求持续强劲增长，但技术研发、生产能力及产业链整合方面仍面临高成本、技术复杂性和供应链依赖等诸多挑战。全球半导体光掩模版市场在2018年至2024年间从40.4亿美元增长至51亿美元，年复合增长率达4.0%。预计到2030年，该市场规模将进一步扩大至约80亿美元。亚化咨询研究认为我国2025年第三方掩模版市场规模占比为70%左右，预计2030年中国掩模版市场规模有望达到120亿元。 全球光掩模版市场主要由Photronics、日本凸版(Toppan)和大日本印刷(DNP)三大企业主导，市场占有率超过70%。而在中国市场，路维光电、清溢光电、龙图光罩等本土企业正在不断提升其市场竞争力，并在国产化替代方面取得突破。 亚化咨询预计2026年市场规模有望达到100亿元。在ArF光刻胶领域，国内厂商正在加快研发进程，并取得了核心突破，如南大光电实现ArF光刻胶量产。国内一些光刻胶龙头企业如上海新阳、南大光电、容大感光、广信材料、晶瑞电材等，在光刻胶的研发和生产方面取得了显著进展。据亚化咨询最新行业调研，国内领先的光刻胶新锐企业还包括珠海基石(2022年成立)、国科天骥(2019年成立)等。国内光掩模与光刻胶产业发展正在提速，技术进步成为产业发展的重要推动力。 第3届光掩模与光刻胶技术论坛将于2026年4月24日在上海召开。本次论坛由亚化咨询主办。此次会议将汇聚行业的领军企业、机构的专家，探讨下一代光刻技术发展方向，中国光掩模版与光刻胶产业的技术进展与应用，市场机遇与挑战，和产业发展前景。
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项目内容
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含两个参会名额
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