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关于我们
光则科技以 “打造最具创造力的光学量测龙头企业” 为愿景，致力于为客户提供高品质、高性能、具备差异化竞争力的光学量测解决方案。
公司聚焦高端智能制造，持续深耕纳米级至微米级光学量检测技术，为半导体、精密制造、生物医学等领域提供全栈式光学装备、核心测头及智能化整体解决方案。依托持续技术创新与产业化落地，光则科技矢志成为光学量检测核心部件领域的领军企业。
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展会介绍
备受行业瞩目的2026慕尼黑上海光博展，正式焕新启航！本届展会锁定 「光启新元・势引未来」的核心主题，汇聚全球光电产业前沿力量，打造集展示、交流、合作、赋能于一体的平台。展会聚焦构建产业新发展格局，精准布局六大展区，展品更细分、更专业，贯通光电全产业链。
杭州光则科技有限公司将携多款自主研发的高端光学量测设备亮相本次展会，重点展示公司在精密光学检测、微观形貌测量及半导体量测领域的创新成果。
我们诚挚邀请您莅临展位（E7-7182），共同探讨高端光学检测技术的发展趋势与行业应用。
展位图
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产品介绍
本次展会，光则科技将重点展示两款核心产品：
多合一显微测头
融合了多种先进光学测量技术，实现从毫米级到纳米级的高精度测量能力。设备通过多光路设计，将不同测量原理整合于同一平台，在一台设备上即可完成多种检测任务，大幅提升检测效率与设备性价比。
系统集成三种核心测量技术：
· 面阵共聚焦测量：适用于混合反射类型材料表面，实现高精度三维形貌测量；
· 白光干涉测量：针对镜面反射材料，实现纳米级表面形貌检测；
· 多焦面叠加测量：快速扫描，高效精准兼容多维度检测需求。
通过构建“共聚焦 + 干涉”复合功能的微观形貌扫描测头，该系统能够灵活应对不同加工特性与复杂材料表面的测量需求，广泛应用于半导体、精密光学、电子制造及高端装备制造等领域。
偏振全息干涉测头
偏振全息干涉测头是光则科技推出的世界领先的4D动态微观测量技术方案。该技术基于数字偏振全息干涉原理，通过高速采集偏振调制全息图并进行数字重建，实现对微观表面形貌的高精度动态测量。
系统通过以下关键技术实现精密测量：
· 偏振调制全息图采集；
· 子图像提取与插值处理；
· 四步相移算法重建CMOS复振幅；
· 衍射重构得到物面复振幅；
· 相位解包裹获得真实表面形貌。
该技术具备非扫描式显微测量、高速度、高精度等特点，可广泛应用于微结构检测、精密加工质量评估及半导体制造过程检测等场景。
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参展导引
地点：上海新国际博览中心-3号入口厅N1-N5、E7-E4馆
时间：2026年3月18日-2026年3月20日
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