2026年3月18日至20日“慕尼黑上海光博会”将在上海新国际博览中心盛大举行。届时，博顿光电将携多款核心部件高性能离子源、全自主可控的离子束微纳加工装备及工艺解决方案重磅亮相，全面展示国产离子束高端装备在光学薄膜、极端微纳结构等关键领域的应用。
从核心部件、高端装备到工艺解决方案，博顿光电将全方位呈现全链条综合实力，以系统化整体能力助推产业生态布局持续完善。诚邀业界同仁、合作伙伴莅临博顿光电展位，交流探讨，共话未来！
展品速览
IBS离子束溅射镀膜设备
工艺技术能力：
双离子束协同，沉积速率稳定，膜层控制精度高
激光损伤阈值优异
超低光学损耗≤5ppm@633nm
超高反射率≥99.999%
薄膜均匀性±0.5%
IBE/RIBE-Lab 离子束刻蚀设备
应用方向：刻蚀精度高，支持倾斜刻蚀和侧壁精确控制，可刻蚀多种材料：金属(Au、Cu、Ag、Al、Pt、W)、介质(SiO2、HfO2、TiO2、LN)、多层异质结构等；
应用工艺：倾斜光栅、矩形光栅、特种光栅、特殊微纳结构等
IBS-Lab 离子束溅射镀膜设备
应用方向：可沉积金属、半导体、介质材料，有着优质薄膜质量及膜厚均匀性和重复性，超薄、超致密、超精准成膜；
应用工艺：介质镀膜、电极镀膜、超薄多层薄膜等
IBX-Lab离子束增减材协同加工试验平台
应用方向：可模块化配置离子束沉积、离子束刻蚀、离子束抛光及表面处理等多种功能
应用领域：可实现原位增减材协同加工，支持各类纳米级及原子级加工工艺实验应用
“
新一代，新型离子源 首发亮相
高密度 · 微波离子源
无电极纯净等离子体，
定义极低损伤加工新标准
新一代 · 矩形离子源
赋能大面积、高均匀性微纳加工
“
全自主研发，全线高性能离子源
米级·矩形射频离子源
可实现对米级大口径光学器件加工，同时可满足连续工艺线的加工需求。
射频离子源
支持多种拱高与束流模式，实现（发散、聚焦和准直）束流形态灵活切换。首创中空阴极与射频中和器，起辉快、束流稳。
全新研发配备12cm孔径的多层栅网射频离子源，专为中小尺寸精密加工需求设计。适合小尺寸、高精度、高均匀性的薄膜制备与表面处理需求。
Mini射频离子源
面向科研型试验场景设计的小型化专用离子源，适应于小型真空腔体内的离子束溅射、离子束刻蚀、离子束辅助沉积等工艺应用。
中空阴极霍尔离子源
突破传统灯丝霍尔离子源只能工作10h限制，连续工作时间可达100h限制以上，可实现连续长工艺。
DISE聚焦型直流离子源
支持可移动结构，适用于大面积、异型、特殊材料等加工对象的超高精度非接触式修形及抛光，精度可达亚纳米级。
3月18日至20日，上海新国际博览中心
博顿光电·展位号：4316
恭候您的莅临！
END
