11月23日—25日，第七届粤港澳真空科技创新发展论坛暨2023年广东省真空学会学术年会在广东中山隆重举办。上海镨赢真空受邀出席，并在展会上介绍了一种hipims+RF的新型溅射方式及CCR ICP离子源在后氧化工艺中的优势。
hipims+RF溅射
ICP离子源:
一种靠电感耦合产生等离子体的装置
CCR离子源的优势以及后氧化工艺中的应用
点击关注公众号，后台回复关键字“报告”，即可获取原文件。
联系人：秦亮
手机：18856320088
Email: liang.qin@www-vacuum.com
Web-site:www.www-vacuum.com
